Oberflächen-Rauheit und Welligkeit
Geometrische Produktspezifikation GPS – die neue Norm ISO 21920
Oberflächen-Rauheit und Welligkeit
Zunehmende Arbeitsteilung, globale Lieferketten, Outsourcing und immer kürzere Entwicklungszyklen erhöhen die Anforderungen an eine präzise und normgerechte Tolerierung. Oberflächenkennwerte wie Rauheit – und in speziellen Fällen auch Welligkeit – gewinnen dabei deutlich an Bedeutung. Gleichzeitig entwickeln sich Normen und Richtlinien kontinuierlich weiter. Für Fachkräfte in Konstruktion und Entwicklung, Fertigung sowie Qualitätssicherung und Messtechnik ist es daher essenziell, aktuelle Vorgaben sicher in der Praxis anzuwenden.
Das Weiterbildungsangebot vermittelt unter anderem:
- die Auswirkungen der überarbeiteten Normenreihe ISO 21920 auf Konstruktion und Messtechnik
- praxisnahe Methoden zur funktionsorientierten Tolerierung
- Wege zu wirtschaftlicher Fertigung bei normgerechter Messbarkeit
So stehen Teilnehmenden moderne Verfahren und Empfehlungen für den direkten Einsatz im beruflichen Alltag zur Verfügung.
Zum Thema
Die Veranstaltung vermittelt die Grundlagen und die zunehmende Bedeutung technischer Oberflächen in Konstruktion, Fertigung und Messtechnik. Teilnehmende lernen, wie Oberflächenmerkmale wie Rauheit, Welligkeit und 3D-Oberflächenkennwerte normgerecht beschrieben, bewertet und als Zeichnungseintragungen eindeutig spezifiziert werden. Dabei stehen internationale Normen wie ISO 21920, ISO 4287, ISO 13565 und relevante VDA-Richtlinien im Mittelpunkt.
Gleichzeitig steigen durch globale Lieferketten, kürzere Entwicklungszyklen und wachsenden Kostendruck die Anforderungen an eine präzise, funktionsorientierte Tolerierung. Die Veranstaltung zeigt praxisnah, wie Oberflächenkennwerte korrekt ausgewählt, funktional toleriert, wirtschaftlich gefertigt und zuverlässig gemessen werden können.
Behandelt werden u. a.: Neuerungen der ISO 21920, Methoden der funktionsorientierten Tolerierung sowie Wege zur normgerechten und zugleich effizienten Fertigungs- und Prüfstrategie.
Zielsetzung
Die Veranstaltung unterstützt einen reibungslosen Umstieg auf die neue Rauheitsnorm ISO 21920 und vermittelt ein klares Verständnis für die Bedeutung technischer Oberflächen. Teilnehmende lernen, Oberflächeneigenschaften sicher über Zeichnungseintragungen zu tolerieren und gewinnen Planungssicherheit durch Einblicke in die Normungshistorie sowie Ausblicke auf zukünftige Entwicklungen.
Teilnehmerkreis
Ingenieure, Techniker und Meister aus Konstruktion, Fertigungsplanung, Produktion und Qualitätsprüfung sowie Fach- und Führungskräfte aus Messtechnik und Qualitätssicherung. Ebenfalls angesprochen sind Ausbilderinnen und Ausbilder in der Industrie und in der beruflichen Bildung.
Programm
Referenten
Leiter Forschung und Entwicklung
Hommel-Etamic GmbH / Jenoptik Industrial Metrology Germany GmbH, Villingen-
Schwenningen, u. a.:
- Leiter des DAkkS-DKD-Kalibrierlabors für Rauheit, Form und Kontur
- Vertretung der Firma in nationalen und internationalen Normungsgremien
- 35 Patentanmeldungen, 33 wiss. Publikationen und 66 öffentl. Vorträge
08/1984 – 08/1990
Wissenschaftlicher Mitarbeiter
Integrierte Optik, Univ. Paderborn
- Experimentelle Forschung im Bereich Integrierte Optik
1984 – 1990
Promotion zum Dr. rer. nat.
Universität Paderborn
- Thema: „Lichtabsorption und optisch induzierte Brechungsindexänderungen in
Ti:LiNbO3-Streifenwellenleitern“
1978 – 1984
Diplomphysiker
Westfälische Wilhelmsuniversität Münster
- Thema: „Erzeugung und Messung von ps-Lichtimpulsen mit GaAlAs-Laserdioden"
Publikationen (Auswahl)
- Volk (2018). Rauheitsmessung, Theorie und Praxis. Beuth-Verlag, Berlin.
- Hüser, Volk, Schwarzer, Feifel (2025). Rauheitsmesstechnik: Umrechnung von
Profilen aus Bezugsflächentastermessungen in Kufentasterprofile. Expertenbericht
DKD-E 4-2. - Eifler, Volk, Feifel, Diederichs, Kerscher, Seewig (2025). Wear analysis of material
measures and stylus probes in repetitive tactile calibration. Measurement 242
(2025) 115894.
Preise
mehrwertsteuerfrei, einschließlich veranstaltungsgebundener digitaler Arbeitsunterlagen sowie Catering und Getränken bei Präsenz-Teilnahme
Ausgewählter Termin
Mi. 21.10.2026, 17:00 Uhr
Hollestr. 1
45127 Essen
Digitaler Campus
Ansprechpartner
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Ute Jasper
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